
主營(yíng)產(chǎn)品:
光學(xué)儀器、光學(xué)材料、實(shí)驗(yàn)儀器、手動(dòng)工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設(shè)備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動(dòng)元件、電工電氣、測(cè)量工具、計(jì)量設(shè)備、氣動(dòng)工具、電動(dòng)工具、化工設(shè)備、化工輔料、點(diǎn)膠設(shè)備、小型設(shè)備、儲(chǔ)存設(shè)備、物流設(shè)備、工業(yè)安防、**防護(hù)、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設(shè)備、辦公文 具、工裝夾具、測(cè)試治具、機(jī)械加工。設(shè)備等。
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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
用(光)高精度檢測(cè)距離或時(shí)間等時(shí),常用法布里-珀羅///////干涉儀(Fabry-Perot interferometer)。
這個(gè)系列的超級(jí)反射鏡為提高法布里-珀羅//////干涉儀的性能而開(kāi)發(fā),超級(jí)反射鏡的反射率非常接近100%了。
詳情介紹:
?采用了離子束濺射(IBS)鍍膜方式,獲得了細(xì)密而無(wú)缺陷的高質(zhì)量光學(xué)膜。
?反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術(shù)制造,其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
?發(fā)揮多年積累的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)了高達(dá)99.999%的高反射率。
?基板和光學(xué)膜的散亂損失非常小,用其構(gòu)建法布里-珀羅腔的話(huà),可得到非常窄的光譜帶寬和高銳度。有使用波長(zhǎng)為532nm和1064nm的兩個(gè)系列。
?反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術(shù)制造,其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
?發(fā)揮多年積累的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)了高達(dá)99.999%的高反射率。
?基板和光學(xué)膜的散亂損失非常小,用其構(gòu)建法布里-珀羅腔的話(huà),可得到非常窄的光譜帶寬和高銳度。有使用波長(zhǎng)為532nm和1064nm的兩個(gè)系列。
目錄編號(hào) | W3176 |
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RoHS | 是 |
CE | 否 |
資料下載 |
PDF
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信息 |
?承接定制凹面超級(jí)反射鏡。請(qǐng)告知曲率半徑。 ?承接定制非標(biāo)尺寸,波長(zhǎng),入射角的等超級(jí)反射鏡,歡迎來(lái)信咨詢(xún)。 ?各波長(zhǎng)的「波長(zhǎng)特性數(shù)據(jù)」(僅供參考、透過(guò)率的單位為T(mén)[%])請(qǐng)參考【這里】。 |
注意 |
?其反射率極高。所以單獨(dú)使用此反射鏡時(shí),幾乎沒(méi)有透過(guò)光。如希望利用其透過(guò)光的話(huà),需要構(gòu)建高精度的法布里-珀羅腔。 ?建議在超凈環(huán)境中使用或測(cè)試此反射鏡。極微量的灰塵,甚至空氣中的分子也會(huì)嚴(yán)重影響其測(cè)定值。 ?如選用兩個(gè)平面反射鏡構(gòu)建法布里-珀羅腔的話(huà),其輸出不容易穩(wěn)定。使用一個(gè)或2個(gè)凹面反射鏡構(gòu)建,更容易得到穩(wěn)定的輸出。 ?和通常的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品相比,超級(jí)反射鏡的制造和檢查過(guò)程更費(fèi)時(shí)間,其需要的生產(chǎn)周期會(huì)更長(zhǎng)些,詳情請(qǐng)事先咨詢(xún)。 |
厚度 t | 8mm |
鍍膜 |
正面 電介質(zhì)高反射多層膜 反面 電介質(zhì)防反射多層膜 |
表面質(zhì)量 | 10?5 |
損失 | 20ppm (此損失數(shù)據(jù)為參考值。產(chǎn)品出貨時(shí)不附帶此參數(shù)的實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的。) |
適用波長(zhǎng) | 532nm |
反射率 | 99.995% (此為使用CRD(Cavity Ring-Down)法測(cè)定的反射率。如測(cè)量方法或條件不同,測(cè)量結(jié)果也許會(huì)不一樣。) |
外徑 φD | φ50mm |
基板面型精度 | λ/10 |
入射角度 | 0° |
平行度 | <5″ |
有效直徑 | 外徑的80% |
形狀 | 平面基板 |
反面反射率 | <0.15% |
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