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光學(xué)儀器、光學(xué)材料、實(shí)驗(yàn)儀器、手動(dòng)工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設(shè)備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動(dòng)元件、電工電氣、測(cè)量工具、計(jì)量設(shè)備、氣動(dòng)工具、電動(dòng)工具、化工設(shè)備、化工輔料、點(diǎn)膠設(shè)備、小型設(shè)備、儲(chǔ)存設(shè)備、物流設(shè)備、工業(yè)安防、**防護(hù)、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設(shè)備、辦公文具、工裝夾具、測(cè)試治具、機(jī)械加工。設(shè)備等。

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產(chǎn)品名稱：功能齊全重慶內(nèi)藤銷售 FE-3000 反射分光光度計(jì) OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品型號(hào)：FE-3000
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價(jià)格：0
折扣價(jià)格：0
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簡(jiǎn)單介紹：

功能齊全重慶內(nèi)藤銷售 FE-3000 反射分光光度計(jì) OTSUKA大塚電子它是一種可以測(cè)量多層薄膜厚度并通過反射光在紫外至近紅外區(qū)域分析光學(xué)常數(shù)的干涉膜厚度計(jì)。功能齊全重慶內(nèi)藤銷售 FE-3000 反射分光光度計(jì) OTSUKA大塚電子通過采用光譜學(xué)，可以以非接觸，非破壞性，高精度測(cè)量具有高重現(xiàn)性的膜厚度。它對(duì)應(yīng)于很寬的波長(zhǎng)范圍（190 nm?1600 nm）。它對(duì)應(yīng)于從薄膜到厚膜的廣泛測(cè)量范圍。（1nm至1mm）通過測(cè)量微小斑點(diǎn)（*小φ3μm），它對(duì)應(yīng)于具有圖案和不均勻性的樣本。

詳情介紹：

通過使用顯微鏡獲得微小區(qū)域的**反射率，可以通過高精度的光學(xué)干涉法進(jìn)行膜厚分析。
和在半導(dǎo)體領(lǐng)域圖案的樣品，其它的形狀進(jìn)行采樣，如透鏡或鉆頭，例如表面粗糙度的樣品和膜厚不均，它使的各種樣品的厚度和光學(xué)常數(shù)分析。

（詳情請(qǐng)咨詢TEL:18375760285 QQ;1280713150 白先生）

特點(diǎn)

它是一種可以測(cè)量多層薄膜厚度并通過反射光在紫外至近紅外區(qū)域分析光學(xué)常數(shù)的干涉膜厚度計(jì)。
通過采用光譜學(xué)，可以以非接觸，非破壞性，高精度測(cè)量具有高重現(xiàn)性的膜厚度。
它對(duì)應(yīng)于很寬的波長(zhǎng)范圍（190 nm?1600 nm）。
它對(duì)應(yīng)于從薄膜到厚膜的廣泛測(cè)量范圍。（1nm至1mm）
通過測(cè)量微小斑點(diǎn)（*小φ3μm），它對(duì)應(yīng)于具有圖案和不均勻性的樣本。

測(cè)量項(xiàng)目

**反射率測(cè)量
薄膜厚度分析
光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光米數(shù)）

使用

功能性膜，塑料
的透明導(dǎo)電膜（ITO，銀納米線），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA，膠，粘合劑，保護(hù)膜，硬外套，指紋等
半導(dǎo)體，化合物半導(dǎo)體
Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，引線框架，SOI，藍(lán)寶石等
表面處理的
DLC涂層，防銹劑，防霧劑等
光學(xué)材料
鏡頭，過濾器，AR涂層等
FPD
LCD（CF，ITO，LC，PI，PS），OLED（有機(jī)膜，密封膠）等
其他
硬盤，磁帶，建筑材料等

測(cè)量原理

使用大冢電子，光學(xué)干涉測(cè)量和我們自己的高精度分光光度計(jì)可實(shí)現(xiàn)非接觸，無損，高速和高精度的薄膜厚度測(cè)量。光學(xué)干涉測(cè)量法是通過使用由使用如圖1所示的分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來獲得光學(xué)膜厚度的方法。例如，如圖1所示，在金屬基板上涂布膜的情況下，從目標(biāo)試樣的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透過膜的光在基板（金屬）或膜界面（R2）上反射。測(cè)量此時(shí)由于光程差引起的相移引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)所獲得的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚度的方法稱為光學(xué)干涉方法。有四種分析方法：峰谷方法，頻率分析方法，非線性*小二乘法和優(yōu)化方法。