
主營產(chǎn)品:
光學儀器、光學材料、實驗儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計量設備、氣動工具、電動工具、化工設備、化工輔料、點膠設備、小型設備、儲存設備、物流設備、工業(yè)安防、**防護、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設備、辦公文 具、工裝夾具、測試治具、機械加工。設備等。
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
多室濺射設備 MLX TM -3000N 是一種用于半導體的薄膜沉積設備,可靈活響應各種工藝需求并實現(xiàn)高性價比。晶圓尺寸從 75 毫米到 200 毫米不等。
詳情介紹:
特征
-
支持*大 200 mm 的電路板尺寸
-
通過消除污染和高精度溫度控制來控制薄膜質(zhì)量
-
靈活的工藝支持,如Al嵌入、厚膜、層壓等。
采用
-
以半導體布線為中心的金屬化
規(guī)格
模型
MLX TM -3000N
設備配置
運輸系統(tǒng)
六角形真空轉移室 x 1 間
模塊
L / UL 室 x 2(或 L / UL 室 x 1 + 脫氣室 x 1)+ *多 4 個工藝室
板尺寸
兼容Φ75mm~200mm
搬運機器人
雙拾取真空搬運機器人
控制系統(tǒng)
電腦控制
采用
功率器件(正面和背面)、UBM、安裝器件、異形板
排氣系統(tǒng)
主排氣
LL 室:干泵
輸送室:渦輪分子泵
工藝室:低溫泵
粗拉
干泵
可安裝的工藝氣體系統(tǒng)
多達 3 個系統(tǒng)
達到壓力
輸送室:1.3 E-4Pa
工藝室:1.0 E -5Pa
電
50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V
冷卻水
0.2-0.3MPa,溫度20-25oC,100L/min
所需氣體
各種工藝氣體:0.05-0.1MPa
N2氣:0.05-0.1MPa
壓縮的空氣
0.55~0.75MPa
接地工作
A類接地
選項
Φ75mm~200mm晶圓可更換
快門機制
靜電吸盤式基板加熱機構
RGA:奎利
增加LL室渦輪分子泵
特征
- 支持*大 200 mm 的電路板尺寸
- 通過消除污染和高精度溫度控制來控制薄膜質(zhì)量
- 靈活的工藝支持,如Al嵌入、厚膜、層壓等。
采用
- 以半導體布線為中心的金屬化
規(guī)格
模型 | MLX TM -3000N | |
設備配置 | 運輸系統(tǒng) | 六角形真空轉移室 x 1 間 |
模塊 | L / UL 室 x 2(或 L / UL 室 x 1 + 脫氣室 x 1)+ *多 4 個工藝室 | |
板尺寸 | 兼容Φ75mm~200mm | |
搬運機器人 | 雙拾取真空搬運機器人 | |
控制系統(tǒng) | 電腦控制 | |
采用 | 功率器件(正面和背面)、UBM、安裝器件、異形板 | |
排氣系統(tǒng) | 主排氣 |
LL 室:干泵 輸送室:渦輪分子泵 工藝室:低溫泵 |
粗拉 | 干泵 | |
可安裝的工藝氣體系統(tǒng) | 多達 3 個系統(tǒng) | |
達到壓力 |
輸送室:1.3 E-4Pa 工藝室:1.0 E -5Pa |
|
電 | 50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V | |
冷卻水 | 0.2-0.3MPa,溫度20-25oC,100L/min | |
所需氣體 |
各種工藝氣體:0.05-0.1MPa N2氣:0.05-0.1MPa |
|
壓縮的空氣 | 0.55~0.75MPa | |
接地工作 | A類接地 | |
選項 | Φ75mm~200mm晶圓可更換 | |
快門機制 | ||
靜電吸盤式基板加熱機構 | ||
RGA:奎利 | ||
增加LL室渦輪分子泵 |